半導體解決方案
Delta-X化合物半導體的X射線量測方案
- 產品品牌: 布魯克 Bruker
- 產品產地: 德國
- 應用領域: 在化合物半導體領域，用于外延層薄膜質量監控，如精確測定厚度、成分、應變等關鍵參數；服務于材料科學研究，助力探究新型化合物半導體材料微觀結構；在工藝開發與生產質量控制中，快速檢測工藝偏差，保障產品質量 。
- 產品簡介: Delta-X 是新一代化合物半導體 X 射線量測方案。其光源臺與探測臺光學元件能全自動化調控，可在標準 XRD、高分辨率 XRD 及 X 射線反射率模式間自動切換，無需人工重新配置。設備搭載 5 軸歐拉環支架，能對 300mm 晶圓進行完整 mapping，兼容大小樣品。測量過程高度自動化，依客戶需求定制程序，并配備專業軟件精準分析數據 。
Delta-X 是布魯克專為半導體薄膜分析而設計的最新一代 X 射線量測系統，適用于材料研究、工藝開發和質量控制等各階段。該系統搭載了全自動化光源光學系統，能夠在無需人工干預的情況下，切換標準 XRD、高分辨率 XRD（HRXRD）和 X 射線反射模式（XRR）。測量過程可以通過預設測量程序實現全自動化執行，同時支持在半手動模式下進行更復雜的測量。
- 系統定位與適用場景：專為半導體薄膜分析設計的新一代X射線量測系統，覆蓋材料研究、工藝開發及質量控制全階段。
- 光學系統與操作模式：搭載全自動化光源光學系統，可自動切換標準XRD、HRXRD、XRR模式，支持全自動化測量與半手動復雜測量。
- 樣品臺性能：配備堅固的五軸歐拉樣品臺，兼容大尺寸晶圓與小尺寸樣品，且小樣品可自動排隊執行多類型檢測。
- 分析功能范圍：支持高分辨率搖擺曲線、倒易空間成像、XRR、GIXRD、相位鑒定、殘余應力評估、薄膜織構與晶粒尺寸分析等多類功能。
- 數據分析能力：搭載JV-RADS、JV-REFS等專業軟件套組，提供專家級數據呈現、解讀及離線分析功能（如組分、厚度、弛豫度計算等）。